Čisticí pěna na obličej s pupečníkem asijským SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam Mini (20 ml)

Detailní popis produktu

Pěna SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam jemně čistí pleť, odstraňuje nečistoty z pórů, odumřelé buňky a přebytečný kožní maz, aniž by způsobovala suchost nebo pocit pnutí.

Přípravek odstraňuje i jemný prach, zjemňuje a zklidňuje pokožku, sjednocuje tón a udržuje optimální úroveň hydratace.

Jemně kyselé složení s přírodními povrchově aktivními látkami na bázi kokosu nenarušuje přirozenou ochrannou bariéru a nepodráždí pokožku. Všechny složky mají bezpečnostní hodnocení EWG.

Krémová textura pěny se snadno nanáší na pleť, při kontaktu s vodou se mění v měkkou pěnu.

Hlavní aktivní složkou je 30 % extrakt z pupečníku asijského, získaný z rostliny pěstované v ekologicky čisté oblasti Madagaskaru. Tato centella obsahuje sedmkrát více asiatikosidu — látky, která zvyšuje pružnost pokožky, normalizuje hydrolipidovou rovnováhu a stimuluje tvorbu kolagenu a elastinu.

Extrakt z pupečníku asijského pečuje o citlivou a poškozenou pleť: zklidňuje podráždění a zarudnutí, brání vzniku rozšířených žilek, zmírňuje projevy ekzému a kuperózy a snižuje citlivost na vnější faktory.

Další aktivní složky:

• Extrakt z kakaových bobů má tonizační a protiedémový účinek. Působí jako antioxidant, urychluje hojení a regeneraci.
• Kokobetaín je šetrný čisticí prostředek s baktericidními vlastnostmi, který odstraňuje nečistoty, aniž by pokožku vysušoval nebo dráždil, a tvoří jemnou pěnu.
• Soda (Sodium Bicarbonate) absorbuje přebytečný maz a účinně bojuje proti černým tečkám. Díky neutrální pH rovnováze je vhodná pro všechny typy pleti.
• Sodium Hyaluronate, forma kyseliny hyaluronové, proniká hluboko do pokožky díky malé velikosti molekul. Intenzivně hydratuje, zvyšuje přirozený hydratační faktor (NMF) a zlepšuje pružnost pokožky.

Vhodné pro všechny typy pleti.

Způsob použití: napěňte produkt v dlaních, naneste na obličej, krouživými pohyby rozetřete po pleti, poté opláchněte teplou vodou a pokračujte v péči.